报道:ASML试图面向中国市场推出特别版DUV光刻机 根据DigiTimes报道,ASML试图规避荷兰新销售许可禁令,面向中国市场推出特别版DUV光刻机。消息称,如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。(券商中国) 上一篇:宁德时代吴凯:新产品充10分钟电可跑400公里,目标5-7分钟 下一篇:工信部调整新能源车型积分计算方法:将新能源乘用车标准车型分值平均下调40%左右 发表回复 您的邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注昵称: 邮箱: 网址: 记住昵称、邮箱和网址,下次评论免输入 填入阿拉伯数字完成算式 eighty four ÷ = twelve Powered by MathCaptcha 提交