国产离子注入设备实现28纳米工艺全覆盖 29日从中国电子科技集团获悉,该集团旗下中电科电子装备集团有限公司已实现离子注入装备28纳米工艺制程全覆盖,有力保障我国集成电路制造行业在成熟制程领域的产业安全。(科技日报) 上一篇:中国驻美大使谢锋: 中美医药合作前景广阔、大有可为 下一篇:迄今最大正常乳腺细胞图谱绘成 发表回复 您的邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注昵称: 邮箱: 网址: 记住昵称、邮箱和网址,下次评论免输入 填入阿拉伯数字完成算式 × one = six Powered by MathCaptcha 提交